钝化处理后保护多长时间

摘要： 证券之星消息，根据企查查数据显示东方雨虹(002271)新获得一项发明专利授权，专利名为“一种石墨烯钝化液及其制备方法以及锂电池软包铝塑膜和锂电池”，专利申请号为CN202211633165.3,授权日为2024年5月14日。专利摘要：本发明属于钝化液领域，更具体地，涉及一种石墨烯钝化液是什么。 ...

证券之星消息，根据企查查数据显示东方雨虹(002271)新获得一项发明专利授权，专利名为“一种石墨烯钝化液及其制备方法以及锂电池软包铝塑膜和锂电池”，专利申请号为CN202211633165.3,授权日为2024年5月14日。专利摘要：本发明属于钝化液领域，更具体地，涉及一种石墨烯钝化液是什么。

金融界2024年5月6日消息，据国家知识产权局公告，杭州新坐标科技股份有限公司申请一项名为“表面有磷皂化膜的易钝化金属冷镦线材“公开号CN117966162A,申请日期为2023年12月。专利摘要显示，本发明提供表面有磷皂化膜的易钝化金属冷镦线材，该线材包括金属线材及其表面的说完了。

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jin rong jie 2 0 2 4 nian 5 yue 6 ri xiao xi ， ju guo jia zhi shi chan quan ju gong gao ， hang zhou xin zuo biao ke ji gu fen you xian gong si shen qing yi xiang ming wei “ biao mian you lin zao hua mo de yi dun hua jin shu leng dui xian cai “ gong kai hao C N 1 1 7 9 6 6 1 6 2 A , shen qing ri qi wei 2 0 2 3 nian 1 2 yue 。 zhuan li zhai yao xian shi ， ben fa ming ti gong biao mian you lin zao hua mo de yi dun hua jin shu leng dui xian cai ， gai xian cai bao kuo jin shu xian cai ji qi biao mian de shuo wan le 。

金融界2024年4月25日消息，据国家知识产权局公告，天合光能股份有限公司取得一项名为“钝化接触电池“授权公告号CN220829964U,申请日期为2023年9月。专利摘要显示，本申请涉及一种钝化接触电池，其包括N型硅片，N型硅片包括相对设置的向光面和背光面，钝化接触电池还包括在后面会介绍。

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金融界2024年3月2日消息，据国家知识产权局公告，隆基绿能科技股份有限公司申请一项名为“钝化材料及其应用“公开号CN117641958A,申请日期为2023年11月。专利摘要显示，本申请提供一种钝化材料及其应用。本申请的钝化材料具有非挥发特性，退火操作对其作用机制没有影响；能好了吧！

金融界2024年4月15日消息，据国家知识产权局公告，生益电子股份有限公司取得一项名为“一种不锈钢钝化液及其应用“授权公告号CN114959671B,申请日期为2022年6月。专利摘要显示，本发明公开了一种不锈钢钝化液及其应用，所述不锈钢钝化液包括硫酸、双氧水和络合剂；其中，所述神经网络。

金融界2024年3月9日消息，据国家知识产权局公告，珠海格力电器股份有限公司申请一项名为“一种钝化层的生长方法以及绝缘栅双极晶体管晶圆“公开号CN117672814A,申请日期为2023年11月。专利摘要显示，本发明实施例提供了一种钝化层的生长方法以及绝缘栅双极晶体管晶圆。..

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金融界2024年3月5日消息，据国家知识产权局公告，天合光能股份有限公司申请一项名为“钝化接触结构及其制备方法、太阳能电池及其制备方法“公开号CN117650196A,申请日期为2023年11月。专利摘要显示，本申请涉及一种钝化接触结构及其制备方法、太阳能电池及其制备方法。..

金融界2024年2月5日消息，据国家知识产权局公告，天合光能股份有限公司取得一项名为“钝化接触结构及其制备方法、太阳能电池及其制备方法“授权公告号CN116404070B,申请日期为2023年6月。专利摘要显示，本申请涉及一种钝化接触结构及其制备方法、太阳能电池及其制备方法说完了。

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金融界2023年12月6日消息，据国家知识产权局公告，浙江华达新型材料股份有限公司取得一项名为“钢板钝化前预处理装置“授权公告号CN220128448U,申请日期为2023年5月。专利摘要显示，本申请公开了钢板钝化前预处理装置，包括支架、升降机构、输送架以及打磨石，所述输送架设神经网络。

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金融界2024年3月4日消息，据国家知识产权局公告，扬州扬杰电子科技股份有限公司申请一项名为“一种防止复合钝化膜过刻蚀的工艺方法“公开号CN117637469A,申请日期为2023年11月。专利摘要显示，一种防止复合钝化膜过刻蚀的工艺方法，涉及半导体加工技术领域。本发明通过研等我继续说。